
专注于化学沉积,电镀和铜面处理技术创新
产品描述
▍产品概述:
● 对小孔和高纵深比有优异的填充能力
● 镀层面铜薄,退火后表面凸起小
● 镀层杂质含量低
● 较低的镀层应力,高延展性和抗拉强度
● 添加剂可CVS分析
▍产品特性:

孔径75 µm,深度360 µm,AR~5

孔径6 µm,深度75 µm,AR~12
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专注于化学沉积,电镀和铜面处理技术创新
产品描述
▍产品概述:
● 对小孔和高纵深比有优异的填充能力
● 镀层面铜薄,退火后表面凸起小
● 镀层杂质含量低
● 较低的镀层应力,高延展性和抗拉强度
● 添加剂可CVS分析
▍产品特性:
孔径75 µm,深度360 µm,AR~5
孔径6 µm,深度75 µm,AR~12
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