
专注于化学沉积,电镀和铜面处理技术创新
产品描述
▍产品概述:
● TGV填孔电镀所开发的配方
● 适用于脉冲和直流电镀
● 填孔性能优异
● 较低的镀层应力,高延展性和抗拉强度
● 添加剂可CVS分析
▍产品特性:

孔径40µm,介厚400µm搭桥之后

介厚400µm,孔径40µm

FIB观察: 无晶体缺陷
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专注于化学沉积,电镀和铜面处理技术创新
产品描述
▍产品概述:
● TGV填孔电镀所开发的配方
● 适用于脉冲和直流电镀
● 填孔性能优异
● 较低的镀层应力,高延展性和抗拉强度
● 添加剂可CVS分析
▍产品特性:
孔径40µm,介厚400µm搭桥之后
介厚400µm,孔径40µm
FIB观察: 无晶体缺陷
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