
专注于化学沉积,电镀和铜面处理技术创新
产品描述
▍产品概述:
● 针对填孔型再布线层(RDL)所开发的配方
● 具备优异的填孔和细线路能力
● 整片均匀性优异
● 较低的镀层应力,高延展性和抗拉强度
● 添加剂可CVS分析
▍产品特性:

细线形貌

小孔形貌

大孔形貌
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专注于化学沉积,电镀和铜面处理技术创新
产品描述
▍产品概述:
● 针对填孔型再布线层(RDL)所开发的配方
● 具备优异的填孔和细线路能力
● 整片均匀性优异
● 较低的镀层应力,高延展性和抗拉强度
● 添加剂可CVS分析
▍产品特性:
细线形貌
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